职位描述
工作职责:
1、协助技术部经理完成各项产品实验;
2、公司现有油墨涂料产品配方优化及新产品的研发;
3、完成产品小批量的生产试验。
岗位要求:
1.主导油墨研发、生产工作:设计,改进配方,工艺,提供产品技术参数,制定标准;
2.试验,测试,书面报告;
3.能够灵活运用本专业的基础理论知识和专业技术知识,熟悉本专业国内外现状和发展趋势;
4.基本掌握现代生产管理和技术管理的方法,有独立解决比较复杂的技术问题;
5.具有5年以上线路板、电子产品油墨生产研发经验;
联系方式
联系人:刘小姐
应聘电话/Email:企业未公开,请通过网站申请职位投递简历,合则约见
工作地址:广东省东莞市松山湖中天国际金融创新园D区-35B栋
面试过程中,遇到用人单位收取费用请提高警惕!
公司介绍
东莞智炜新材料股份有限公司成立于2016年11月23日,注册资金为1093.75万元,企业类型为内资企业-股份有限公司,所属行业为制造业,坐落于高新区——广东省东莞市松山湖高新科技产业开发区。公司职工总人数为18人,其中从事研发和相关技术创新活动的科技人员为11人。 公司经营范围是主要生产、研发与销售纳米导电材料、导热电子材料、纳米技术产品、水性涂料、保护膜材、医用材料、水性胶粘剂及其他胶粘剂。产品广泛应用于智能制造行业、PCB制造业、消费电子材料行业、家居建筑行业、医用材料行业和新能源汽车等领域。 主要产品如下: 1、光电产业领域:为光电产业提供上下游的优质产品和技术服务,如,PCB油墨、支架油墨、LED封装材料、电子三防漆、UV堵孔材料;各类光电耗材如:菲林、基础化工原料、配置类药水、电镀金属及金属盐以及易损耗物品。 2、生物医用材料及防伪领域:结合核孔膜膜分离技术强大的过滤、分离功能和生物医用技术,拓展核孔膜应用技术领域,为人们的健康保驾护航。可应用于蛋白及生物提取、TCT癌症检测、细胞及病毒分离、血液过滤等。核径迹防伪技术是在上世纪90年代末开发的,具有国际水平的新一代防伪技术,被称为防伪领域的核武器。广泛用于烟、酒及名牌产品的防伪包装,应用品牌有:白云边、古井贡等。 3、新型环保建材、家居领域:利用膜分离技术赋予产品全新的性能,提高了分离膜的过滤能力,可以改善居住条件,为健康提供多一分保障。环保家居产品有:防雾霾纱窗、超滤饮水杯、超滤膜等。新型环保建材有:MS胶、家居涂料、特种涂料等。 4、新能源汽车领域:汽车内饰胶粘剂、导热材料、电池隔膜等。利用膜分离技术研制的电池隔膜在保证导电性的同时降低了膜电阻,有效提高电池功率。 5、电子制造领域:电子元器件封装材料、导热材料、电子三防漆、PUR热熔胶、电子保护胶和电子胶粘剂。 6、纳米材料与技术应用领域:纳米涂层、微棱镜反射膜、纳米防水材料等。将纳米材料与新技术结合,充分展现纳米材料的独特性能,提升了产品的应用性能,拓宽了产品应用领域。 客户群体主要有:佛山国星光电股份有限公司、福建鼎泰光电科技有限公司(信达光电系列)(三安光电系列)、德国欧司朗股份有限公司、深圳瑞丰光电子股份有限公司、湖北永创鑫电子有限公司、湖北碧辰科技股份有限公司、湖南方正达电子科技有限公司、珠海汇一宏光电有限公司、江西天易电路科技有限公司、桂林恒泰电子科技有限公司等等。 我司拥有一个研发中心、两个生产基地和四个事业部:东莞总部的研发中心;苏州高新区生产基地以及广西生产基地;PCB电子材料事业部、家居建筑新型材料事业部、医用材料事业部和纳米新材料事业部。积极联合知名高校、研究所,采用强强联合、优势互补的合作方式,提升产品的技术含量,加快科技成果的转化速率,体现科学技术应用效果的最优化。与中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、清华大学、华南理工大学等高校研究所开展紧密的科研合作,推动科技成果转化为应用产品,并且取得了显著的成果。我司已经拥有2项省级高新技术产品、8项已授权的国家发明专利,并且于2020年通过了国家高新技术的认证。 企业愿景是成为新材料行业完美解决方案的最佳提供者;企业使命是用创新,为合作伙伴创造更大的价值;企业理念是创新、诚信、共赢、卓越、进取 未来发展方向如下: 1、紧跟消费电子产品与智能制造的发展步伐,促进企业不断的创新与发展,应用新材料、新技术为客户提供满意的产品与服务。 2、结合新能源汽车的发展方向,拓展新材料的应用领域,为清洁能源的发展提供强有力的技术与产品支持。 3、开拓新材料在医疗领域中的应用,用科技的力量改变生活,为人们的健康生活谋福祉。 4、紧跟光电产业发展步伐,为光电产业上下游企业提供优质的配套产品和技术服务,完善光电产业的供应链,促进光电产业集群化、规模化发展。 5、石墨烯具有优异的光学、电学、力学特性,在材料学、微纳加工、能源、生物医学和药物传递等方面具有重要的应用前景,被认为是一种未来革命性的材料。我们将致力于开拓生物质法石墨烯的应用领域,探索利用石墨烯提高产品附加值。 6、光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,大规模和超大规模集成电路的发展,极大促进了光刻胶的研究开发和应用。利用光刻胶化学反应机理和显影原理,将光刻胶作涂层,就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。